Numéro J3eA Volume 7, Numéro HORS SÉRIE 1, 2008 CETSIS 2007 Numéro d'article 1033 Nombre de pages 5 DOI http://dx.doi.org/10.1051/j3ea:2008032 Publié en ligne 22 Février 2008

J3eA 7, 1033 (2008)
DOI: 10.1051/j3ea:2008032

Design and realization of a photolithography alignment and uv exposure equipement for pedagogical and laboratory experiment purposes

Ronaldo Domingues Mansano¹, Nilson Ordonez¹, Nilton Morimoto¹, Patrick Verdonck¹, Bertrand Carbonne², Yves Danto² and Olivier Bonnaud<sup>3

1</sup>  Escola Politecnica Da USP, Laboratorio De Sistemas Integraveis, university SaoPaulo, Av.Prof. luciano Gualberto, 158, CEP05508-900, Sao Paulo, Brasil
²  Université Bordeaux, pôle CNFM de Bordeaux 351 Cours de la Libération 33405 Talence, France
³  Centre Commun de Microélectronique de l'Ouest, Pôle CNFM de Rennes, Campus de Beaulieu, Université de Rennes 1, 35042 Rennes Cedex, France

Yves.danto@ims-bordeaux.fr

(Published online: 22 February 2008)

Abstract
This paper presents a project developed in cooperation between two French Microelectronic Centres and a Microsystems Brazilian Laboratory. The goal was to design and fabricate a very simple photolithography alignment and UV exposure machine for both main purposes: pedagogical formation for initial education students and for research laboratories involved in the deposition and the growth of thin films for devices applications. The basic idea was to design a very simple equipment which does not need any specific training and can be used by students or searchers without heavy facilities such VLSI technology clean rooms and associated expensive equipments. The features and characteristics of this equipment involving a violet LED matrix as UV light source are close to industrial alignment equipment for research laboratories. The field of applications covers the prototyping of basic devices and the training for students at master level.

Résumé
Cette présentation est relative à un projet développé en coopération entre deux pôles français de Microélectronique et un laboratoire brésilien de microsystèmes. Ce projet a consisté à développer et mettre au point un système d'alignement et d'exposition au rayonnement ultraviolet pour des opérations de photolithographie de laboratoire. L'idée de base a été de concevoir un ensemble de très grande simplicité, utilisable sans formation particulière par tout chercheur ou étudiant en milieu universitaire et ne nécessitant qu'une maintenance sommaire sans la nécessité d'une salle blanche de haute technologie. Les performances et caractéristiques de cet équipement utilisant une matrice de diodes électroluminescentes émettant dans l'UV sont voisines de celles fournies par les industriels pour les laboratoires de recherche. Les domaines d'applications concernent le prototypage de structures et la formation pratique des étudiants dans le domaine de la photolithographie. Les performances visées sont celles des aligneurs industriels de laboratoire. Le texte de cette communication a été rédigé en anglais pour ne pas pénaliser sa diffusion par nos collègues brésiliens.

Key words: Alignment and exposure equipment for photolithography -- microelectronics -- microtechnology.

Mots clés : Machine d'alignement et d'insolation -- microélectronique -- microtechnologies


© EDP Sciences 2008

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