Nanocrystals inside : fabrication de composants mémoires MOS à base de nanocristaux de siliciumJ. Grisolia, G. Ben Assayag, R. Diaz, Ch. Duprat, F. Guerin, C. Capello, C. Rouabhi, F. Gessinn et M. RespaudJ3eA, 13 (2014) 0008DOI: https://doi.org/10.1051/j3ea/2014008
