Macrocellule intégrée pour la mesure de courant avec isolation galvanique en technologie CMOS standard L. Hébrard, V. Frick, P. Poure et F. Braun J3eA, 2 (2003) 007 Publié en ligne : 15 juin 2003 DOI: 10.1051/bib-j3ea:2003607