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Nanocrystals inside : fabrication de composants mémoires MOS à base de nanocristaux de silicium

J. Grisolia, G. Ben Assayag, R. Diaz, Ch. Duprat, F. Guerin, C. Capello, C. Rouabhi, F. Gessinn and M. Respaud

J3eA, 13 (2014) 0008

Published online: 26 mai 2014

DOI: 10.1051/j3ea/2014008

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Rédacteur en chef : Pascal VRIGNAT - Comité de rédaction
eISSN : 1638-5705
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