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Nanocrystals inside : fabrication de composants mémoires MOS à base de nanocristaux de silicium

J. Grisolia, G. Ben Assayag, R. Diaz, Ch. Duprat, F. Guerin, C. Capello, C. Rouabhi, F. Gessinn et M. Respaud

J3eA, 13 (2014) 0008

Publié en ligne : 26 mai 2014

DOI: 10.1051/j3ea/2014008

J. Grisolia

G. Ben Assayag

R. Diaz

Ch. Duprat

F. Guerin

C. Capello

C. Rouabhi

F. Gessinn

M. Respaud

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