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Influence des paramètres puissance source et bias sur la gravure ICP-RIE plasma d’une couche mince suivie par interférométrie LASER

D. Constantin, C. Petit-Etienne et A. Bsiesy

J3eA, 21 (2022) 1003

Publié en ligne : 10 juin 2022

DOI: 10.1051/j3ea/20221003

D. Constantin

C. Petit-Etienne

A. Bsiesy

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