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J3eA
Volume 21, 2022
JPCNFM 2021 – 16e journées pédagogiques du CNFM (Coordination Nationale pour la Formation en Micro-électronique et en nanotechnologies)
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| Article Number | 1003 | |
| Number of page(s) | 7 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/j3ea/20221003 | |
| Published online | 10 juin 2022 | |
Influence des paramètres puissance source et bias sur la gravure ICP-RIE plasma d’une couche mince suivie par interférométrie LASER
1
CIME Nanotech, Pôle CNFM Grenoble, Univ. Grenoble Alpes, F-38000, Grenoble, France
2
Univ. Grenoble Alpes, CNRS, CEA/LETI-Minatec, Grenoble INP, LTM, F-38054 Grenoble - France
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Résumé
Le CIME Nanotech, Centre Interuniversitaire de Microélectronique et Nanotechnologies, pôle du GIP CNFM (1) de Grenoble, répond aux besoins en formation expérimentale et pratique dans les domaines de la microélectronique et des nanotechnologies au travers de ces huit plateformes. L’offre de travaux pratiques sur la plateforme Salle Blanche, jusqu’alors orientée filière de fabrication de dispositifs micro- et nano-électroniques, propose désormais un travail pratique sur les plasmas appliqués à la gravure ionique réactive de couches minces sur un équipement de type industriel, suivie par interférométrie laser.
© The authors, published by EDP Sciences 2022
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