| Numéro |
J3eA
Volume 21, 2022
JPCNFM 2021 – 16e journées pédagogiques du CNFM (Coordination Nationale pour la Formation en Micro-électronique et en nanotechnologies)
|
|
|---|---|---|
| Numéro d'article | 1003 | |
| Nombre de pages | 7 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/j3ea/20221003 | |
| Publié en ligne | 10 juin 2022 | |
Influence des paramètres puissance source et bias sur la gravure ICP-RIE plasma d’une couche mince suivie par interférométrie LASER
1
CIME Nanotech, Pôle CNFM Grenoble, Univ. Grenoble Alpes, F-38000, Grenoble, France
2
Univ. Grenoble Alpes, CNRS, CEA/LETI-Minatec, Grenoble INP, LTM, F-38054 Grenoble - France
* Contact email : delphine.constantin@univ-grenoble-alpes.fr
Le CIME Nanotech, Centre Interuniversitaire de Microélectronique et Nanotechnologies, pôle du GIP CNFM (1) de Grenoble, répond aux besoins en formation expérimentale et pratique dans les domaines de la microélectronique et des nanotechnologies au travers de ces huit plateformes. L’offre de travaux pratiques sur la plateforme Salle Blanche, jusqu’alors orientée filière de fabrication de dispositifs micro- et nano-électroniques, propose désormais un travail pratique sur les plasmas appliqués à la gravure ionique réactive de couches minces sur un équipement de type industriel, suivie par interférométrie laser.
© The authors, published by EDP Sciences 2022
This is an Open Access article distributed under the terms of the Creative Commons Attribution License (http://creativecommons.org/licenses/by/4.0), which permits unrestricted use, distribution, and reproduction in any medium, provided the original work is properly cited.
Les statistiques affichées correspondent au cumul d'une part des vues des résumés de l'article et d'autre part des vues et téléchargements de l'article plein-texte (PDF, Full-HTML, ePub... selon les formats disponibles) sur la platefome Vision4Press.
Les statistiques sont disponibles avec un délai de 48 à 96 heures et sont mises à jour quotidiennement en semaine.
Le chargement des statistiques peut être long.